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什么叫四羥基氫氧化銨
什么叫四羥基氫氧化銨?四羥基氫氧化銨又被稱(chēng)為氫氧化四羥基銨，英文簡(jiǎn)寫(xiě)為T(mén)MAH，化學(xué)式為(CH3)4NOH。?沒(méi)有顏色全透明含有氨異味，很強(qiáng)的有機(jī)堿，PH>13，在135～150℃時(shí)徹i底溶解汽化形成三甲胺、乙醇和甲醚。非常容易與空氣中的二氧化碳反映。
TMAH的主要用途
1、做為集成電路（IC）領(lǐng)域、液晶顯示屏領(lǐng)域（TFT-LCD）、光電材料(LED)領(lǐng)域的顯影液。TMAH是一種有機(jī)堿，一方面它和無(wú)機(jī)堿一樣具備強(qiáng)偏堿，另一方面它具備其與眾不同的特點(diǎn)，即在應(yīng)用全過(guò)程中不容易留有金屬離子，加溫后能夠轉(zhuǎn)化成三甲胺汽體和乙醇汽體且沒(méi)留一切印痕，可廣泛運(yùn)用于當(dāng)代電子產(chǎn)業(yè)。顯影液的主要成分是堿，原先應(yīng)用的堿是無(wú)機(jī)堿KOH，伴隨著高新科技的發(fā)展，集成電路的設(shè)計(jì)方案生產(chǎn)制造需考慮各種各樣繁雜的加工工藝標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)化工品殘?jiān)?guī)定愈來(lái)愈嚴(yán)苛。以前用的顯影液是KOH等無(wú)機(jī)堿，顯影液后必須用很多的水開(kāi)展清洗基鋼板，還不可以確保K+可以完全清洗整潔。金屬離子的過(guò)多殘余就不能滿(mǎn)足一些嚴(yán)苛的加工工藝標(biāo)準(zhǔn)，如單獨(dú)生產(chǎn)制造模塊中電子元件的總數(shù)愈來(lái)愈多，圖形界限愈來(lái)愈窄，變成牽制電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)的一個(gè)不可忽視的短板，而TMAH恰好擺脫了KOH的缺陷，無(wú)金屬離子，高溫溶解沒(méi)有殘留。
